미래를 선도하는 친환경 플라즈마 스크러버

The Global Standard of Plasma Gas Scrubber

YHS-04W

반도체와 LCD제조공정에서 사용되는 유해한 PFCs계 GAS를 Heater를 이용하여 환경적으로 완벽하게 분해시키고 처리하는 시스템.
영진아이엔디의 Heat Wet SCRUBBER는 반도체/LCD 작업현장에서 발생하게 되는 폭발성·부식성·독성가스를 Heater를 이용하여 완전 분해 처리 가능
YHS-04W 이미지
  • 적용분야

    반도체 및 LCD산업의 Process 및 Cleaning GAS처리용.
  • 적용가스

    PFCs가스를 포함한 모든 공정 가스

제품사양

Item YHS-04W
TYPE Heat Wet
Dimension 800 x 800 x 1800
Capacity 500LPM
Weight 500 kg
Inlet NW40 X 4Port
Outlet MF100 X 1Port
Drain Power Drain
  • 제품특징

    높은 분해처리율

    Vacuum Pump 후단 제어를 통한 생산 영향 사고 최소화

    Scrubber 내 Clogging 방지용 압력 자동제어(PLC제어)

    간편한 설치 및 경제적인 유지보수 비용

    CO₂발생 방지 (연료 GAS 불필요)

  • 적용 공정
    및 Gas

    반도체/LCD 전 공정

    적용가스 : PFCs가스를 포함한 All Process GAS

제품구성별 특징

  • Heater With Inner Housing Decomposition
    - Heater를 이용하여 유해가스 분해처리
    Spray Quenching/Absorption
    - 물분사를 이용한 By-Product의 탁월한 제거 효과
    Auto Power Drain
    - 폐수의 원활한 배출
    Gas Vent
    - Powder, Water, Mist 배출의 최소화
  • Pressure Control
    - PID 방식의 압력 제어로 장비내 정확한 압력 측정 및 파우더 고착 방지
    Auto Control System
    - PLC기반 Touch Screen Display
    - Auto/Manual 동작 및 간편한 조작성
    - 이상 발생시 Error 표시 및 History 저장 기능
    - 빠른 응답속도와 정확성을 갖는 PLC Control
    By-Pass Function
    - 3-way Pneumatic 밸브를 이용한 처리가스 자동 유도

제품사양

Model Name Dimension [W x D x H] Capacity(Ipm) Inlet Q’ty[EA] Applicable Process Remarks
YHS-04W 800 x 800 x 1800 500 4 CVD, T/F, DIFF For wafer process

Utility 사양

Cabinet Dimension(mm) WIDTH DEPTH HEIGHT
800 800 1800
POWER 전압(V) AC 208V
상(PHASE) 3Phase
전류(A) 50A, 50 ~ 60Hz, 4lines
Max. Capacity 500LPM
UTILITY SIZE TYPE FLOW(LPM) PRESSURE(PSI)
GAS 1 GN2 3/8” SUS 15 ~ 30 80 ~ 85
2 CDA 3/8” SUS 100LPM 80 ~ 85
WATER 3 PCW IN 1/2” SUS 7 ~ 10 50 ~ 71
4 PCW OUT 1/2” SUS 7 ~ 10 50 ~ 71
5 NPW 1/2” SUS 4 ~ 20 35 ~ 71
EXHAUST 6 CABINET MF100 SUS 600
USER GAS 7 INLET NW40 SUS 150
8 OUTLET MF100 SUS 600
9 BY-PASS NW40 SUS 150
DRAIN 10 POQWR 1” CPVC Use Forced Drain

TAGET ABATEMENT GAS

PFC gases : NF3, SF6, etc.

Flammable gases : SIH4, TEOS, H2, PH3, etc.

Water Soluble gases : BCL3, Clw, HF, HCl, NH3, etc.